Анализатор остаточных газов INFICON Transpector SPS
Анализатор остаточных газов INFICON Transpector® с однократным отбором проб под давлением (SPS) обеспечивает лучшую защиту полупроводниковых пластин и панелей дисплея для целевых процессов под высоким давлением. Transpector SPS сводит к минимуму количество отходов пластин и панелей благодаря наиболее чувствительному обнаружению утечек воздуха и технологических загрязнений для приложений с одним давлением. Он обеспечивает лучшие в отрасли пределы обнаружения и скорость измерения, что позволяет гарантировать качество и количество выводов пластин и панелей.
Transpector SPS максимизирует производительность и выход процесса, обеспечивая самый надежный мониторинг процессов для стабильных процессов под высоким давлением. Прибор сочетает в себе простую и экономичную систему впуска с проверенным на практике источником ионов и насосным агрегатом, что обеспечивает решение для анализа газа с низким уровнем риска и высокой прибылью. Transpector SPS идеально подходит для общего вакуума и промышленного применения. Это проверенное решение для металлургии и термической обработки, например, вакуумно-дуговой переплавки (VAR). Transpector SPS настраивается и может быть адаптирован к конкретным приложениям и бюджетам. Стандартные комбинации диафрагм, капилляров и байпасных линий могут быть выбраны для отбора проб при технологическом давлении от 1E до 4 Торр до атмосферного. Коррозионностойкий входной патрубок, источник ионов и насосный агрегат рассчитаны на долговечность при травлении, CVD, ALD и других агрессивных газовых процессах.
Преимущества
Минимизация совокупной стоимости владения защитой пластин и панелей благодаря одному входу для отбора проб под давлением; Идеально подходит для процессов высокого давления, таких как диффузия, эпитаксия и RTP.
Обеспечивает самый низкий уровень обнаружения утечек воздуха и загрязнений для процессов с постоянным высоким давлением
Бесшовная интеграция и надежный запрет за счет мощного сбора и синхронизации данных
Расширяет уникальные производственные возможности с индивидуальной оптимизацией рецептов
Защищает критически важные технологические потребности благодаря немедленному реагированию экспертов на месте
Типичные области применения
Процессы PVD
Процессы диффузии и эпитаксии
Процессы травления, включая: травление металла, диэлектрика, кремния, травление HDP
Процессы CVD, включая: диэлектрики с высоким k, HDP-CVD, LP-CVD, SA-CVD, CVD Low k, PE-CVD
